产品概述 为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ·cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行精处理。抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。
产品特点 1、集成电路生产行业工艺用水系统 2、芯片的生产制造工艺用水系统 3、多晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 4、单晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 5、LED或LCD生产系统工艺用水
适用范围 抛光混床一般设计流速:40-60m/h,抛光混床入口前用PVC的,出口以后用PVDF。另外将抛光混床尽可能安装至接近使用端,因为:1、抛光混床基本不需维护管理,安装在现场和安装在厂务端对管理都不会有影像。2、对提高水质有很大好处。3、可大限度节约PVDF费用。
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产品概述
为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ·cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行精处理。抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。
产品特点
1、集成电路生产行业工艺用水系统 2、芯片的生产制造工艺用水系统 3、多晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 4、单晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水 5、LED或LCD生产系统工艺用水
适用范围
抛光混床一般设计流速:40-60m/h,抛光混床入口前用PVC的,出口以后用PVDF。另外将抛光混床尽可能安装至接近使用端,因为:1、抛光混床基本不需维护管理,安装在现场和安装在厂务端对管理都不会有影像。2、对提高水质有很大好处。3、可大限度节约PVDF费用。
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产品详情

一、产品概述:

为获得电子、医药或其他行业用电导率0.055μS/cm(电阻率18.2 MΩ·cm)的理论纯水,在普通混床或EDI净水设备后,通常还装设抛光混床进行精处理。抛光混床又称一次性混床一般情况用在工艺末端,用来进一步提高产水水质。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的。

二、原理介绍:

抛光混床的作用原理与普通混床是相似的,所不同的是抛光混床填料为精度高的抛光树脂。所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况。这种抛光混床用树脂是相对密度很接近的阴树脂和阳树脂的混合物,由于无法将这种树脂的阴、阳树脂分离,不能用酸碱将它们分别再生,所以这种抛光树脂失效后,弃之不用。抛光树脂:人们常说的抛光树脂一般用于超纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对TOC、SIO2都有一定的控制能力。抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后及可使用无需再生。一般用于半导体行业。

三、技术特点:

1、集成电路生产行业工艺用水系统

2、芯片的生产制造工艺用水系统

3、多晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水

4、单晶硅生产过程中工艺和清洗过程用水

5、LED或LCD生产系统工艺用水

四、行业应用:

抛光混床一般设计流速:40-60m/h,抛光混床入口前用PVC的,出口以后用PVDF。另外将抛光混床尽可能安装至接近使用端,因为:1、抛光混床基本不需维护管理,安装在现场和安装在厂务端对管理都不会有影像。2、对提高水质有很大好处。3、可大限度节约PVDF费用。


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